Techniques of interference reduction in probe system for wafer level noise measurements of submicron semiconductor devices.

Ludwik Spiralski; Arkadiusz Szewczyk; Lech Hasse

Techniques of interference reduction in probe system for wafer level noise measurements of submicron semiconductor devices.

Abstract

Przedstawiono skrótowo system do ostrzowych pomiarów szumów struktur submikronowych. Znaczny wpływ na pomiary ostrzowe mają zakłócenia i szumy własne systemu, zwłaszcza zakłócenia o wysokim poziomie wpraowadzane przez ostrza (fluktuacje rezystancji styków ostrza do struktury powodowane przez wibracje i udary mechaniczne w środowisku pomiarowym)i środowisko elektromagnetyczne. Zakłócenia okresowe powodowane przez wibracje i pola elektromagnetyczne mogą być separowane od mierzonych szumów. Przebiegi są rejestrowane jako sekwencje rekordów czasowych o czasach trwania będących wielokrotnością okresu sygnału zakłócającego i są sumowane koherentnie a następnie odejmowane od zarejestrowanych danych. Umożliwia to analizę składowych losowych i okresowych sygnału oddzielnie.

Authors (3)

Ludwik Spiralski prof. zw. dr hab. inż.
- Faculty of Electronics, Telecommunications and Informatics
- Gdańsk University of Technology
Arkadiusz Szewczyk dr inż.
- Faculty of Electronics, Telecommunications and Informatics
- Gdańsk University of Technology
Lech Hasse dr inż.
- Faculty of Electronics, Telecommunications and Informatics
- Gdańsk University of Technology

Cite as

Full text

full text is not available in portal

Keywords

Details

Category:: Articles
Type:: artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
Language:: English
Publication year:: 2004
Bibliographic description:: Spiralski L., Szewczyk A., Hasse L.: Techniques of interference reduction in probe system for wafer level noise measurements of submicron semiconductor devices.// . -., (2004), s.0-0
Verified by:: Gdańsk University of Technology

seen 111 times