Search
Electrical conductivity of NbN-SiO2 films obtained by ammonolysis of Nb2O5-SiO2 sol-gel derived coatings
Abstract
W pracy przedstawiono badania przewodnictwa elektrycznego (w zakresie 5-280K) warstw NbN-SiO2 o grubości 450 nm. Warstwy uzyskano poprzez azotowanie otrzymanych metodą zol-żel warstw Nb2O5-SiO2, o różnym stosunku molowym Nb2O5/SiO2. Azotowanie takich warstw w temperaturze 1200C prowadzi do otrzymania metalicznych granul NbN w amorficznej matrycy SiO2. Struktura warstw była badana mikroskopem sił atomowych (AFM) oraz metodą dyfrakcji rentgenowskiej (XRD). Zależność przewodnictwa elektrycznego w funkcji temperatury została opisana na gruncie modelu proponowanego w literaturze dla układów o słabym nieuporządkowaniu. W żadnej z badanych warstw nie zaobserwowano przejścia nadprzewodzącego.
Author (1)
Cite as
Full text
full text is not available in portal
Keywords
Details
- Category:
- Articles
- Type:
- artykuł w czasopiśmie z listy filadelfijskiej
- Published in:
-
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS
no. 354,
pages 1549 - 1552,
ISSN: 0022-3093 - Language:
- English
- Publication year:
- 2008
- Bibliographic description:
- Kościelska B.: Electrical conductivity of NbN-SiO2 films obtained by ammonolysis of Nb2O5-SiO2 sol-gel derived coatings// JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS. -Vol. 354., (2008), s.1549-1552
- Verified by:
- Gdańsk University of Technology
seen 64 times