Evaluation of conductive-to-resistive layers interaction in thick-film resistors

Krzysztof Mleczko; Zbigniew Zawiślak; Adam Witold Stadtler; Andrzej Kolek; Andrzej [obcy] Dziedzic; Jacek Andrzej Cichosz

doi:10.1016/j.microrel.2008.03.012

Evaluation of conductive-to-resistive layers interaction in thick-film resistors

Abstract

Spektroskopia szumowa w zakresie małych częstotliwości jest używana do badania oddziaływania warstwy rezystywnej i przewodzącej w wytwarzanych rezystorach grubowarstwowych. Wprowadzono dwa parametry szumowe do określania stopnia tego oddziaływania. Opisano wyniki przeprowadzonych badań oddziaływania warstw z dwutlenku rutenu, rutenku bizmutu z kontaktami ze złota, platyna-złoto, pallad-srebro, od różnych producentów.

Citations

1 1

CrossRef
0

Web of Science
1 8

Scopus

Authors (6)

Cite as

Full text

full text is not available in portal

full content of the article see on external site open in new tab

Keywords

Details

Category:: Articles
Type:: artykuł w czasopiśmie z listy filadelfijskiej
Published in:: MICROELECTRONICS RELIABILITY no. 48, pages 881 - 885,
ISSN: 0026-2714
Language:: English
Publication year:: 2008
Bibliographic description:: Mleczko K., Zawiślak Z., Stadtler A., Kolek A., Dziedzic A., Cichosz J.: Evaluation of conductive-to-resistive layers interaction in thick-film resistors// MICROELECTRONICS RELIABILITY. -Vol. 48., nr. nr 6 (2008), s.881-885
DOI:: Digital Object Identifier (open in new tab) 10.1016/j.microrel.2008.03.012
Verified by:: Gdańsk University of Technology