Search
Search results for: warstwy diamentopodobne
-
Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych
PublicationW pracy przedstawiono optoelektroniczny system do diagnostyki in-situ plazmowych procesów CVD, wykorzystywanych do wytwarzania cienkich warstw diamentopodobnych. W systemie zastosowano przestrzenną optyczną spektroskopię emisyjną SR-OES i spektroskopię ramanowską. Pozwala to na jednoczesne badanie rozkładu cząstek w plaźmie i parametrów rosnącej warstwy. Opisano konstrukcję systemów pomiarowych, sprzęgniętych z komorą CVD za pomocą...
-
Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych
PublicationPrzedstawiono optoelektroniczny system do diagnostyki in-situ plazmowych procesów CVD, wykorzystywanych do wytwarzania cienkich warstw diamentopodobnych. W systemie zastosowano przestrzenną optyczną spektroskopię emisyjną SR-OES i spektroskopię ramanowską. Pozwala to na jednoczesne badanie rozkładu cząstek w plaźmie i parametrów rosnącej warstwy. Opisano konstrukcję systemów pomiarowych, sprzęgniętych z komorą CVD za pomocą dedykowanych...
-
Long-working-distance Raman system for monitoring of uPA ECR CVD process of thin diamond/DLC layers growth
PublicationW artykule przedstawiono konstrucję systemu optoelektronicznego do monitoringu ramanowskiego in-situ procesu μPA ECR CVD (ang.: Microwave Plasma Assisted Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapour Deposition), stosowanego do osadzania cienkich warstw diamentowych i diamentopodobnych DLC. System ma budowę modułową i wyposażony jest w dedykowane sondy optyczne. Przedstawiono wyniki pomiarów testowych, potwierdzjące, że system posiada...
-
Optoelectronic system for investigation of cvd diamond/DLC layers growth
PublicationDevelopment of the optoelectronic system for non-invasive monitoring of diamond/DLC (Diamond-Like-Carbon) thin films growth during μPA ECR CVD (Microwave Plasma Assisted Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapour Deposition) process is described. The system uses multi-point Optical Emission Spectroscopy (OES) and long-working-distance Raman spectroscopy. Dissociation of H2 molecules, excitation and ionization of hydrogen atoms...
-
System optoelektroniczny do kontroli procesów μPA CVD
PublicationPrzedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monitorowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych...