Wyszukiwarka
Opis
Thin films were prepared by radio frequency reactive magnetron sputtering technique. Metallic Te target was sputtered for about 45 min in argon-oxygen atmosphere what resulted in 300 nm film thickness deposition. The pressure in the chamber was below 0.2 Pa and substrate was heated at 200 °C. The distance between sputtered target and the Corning 1737 glass substrate was about 10 cm. Chemical composition of prepared samples was analyzed by X-ray photoemission spectroscopy method (XPS). The XPS measurement was performed at room temperature under ultra-high vacuum conditions, at pressures below 1.1 × 10−6 Pa by Omicron NanoScience equipment. Data analysis was performed with the CASA XPS software package using a Shirley background subtraction and least-square GaussianLorentzian – GL(30) curve fitting algorithm. The spectra obtained were calibrated to give a binding energy of 285.00 eV for C 1s. In this data set results of XPS investigations of thin films deposired under variuos Ar-O ratio are presented.
Plik z danymi badawczymi
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcie
CC BYUznanie autorstwa - Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
- Oprogramowanie:
- origin
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2021
- Data zatwierdzenia:
- 2021-07-12
- Data wytworzenia:
- 2019
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- informatyka techniczna i telekomunikacja (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/jsg3-yy74 otwiera się w nowej karcie
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 48 razy