Wyszukiwarka
Opis
Silver and gold bimetallic layers were deposited on a silicon substrate by magnetron sputtering method. Both, Au and Ag layers had 3 nm of thickness. That prepared nanostructures were measured by XPS method. To obtain a depth profile of chemical composition, an Argon ion (Ar+) gun was used for etching surface of sample. Each cycle of etching takes 30 sec. It was repeated 7 times. As a result of etching, and simultaneous XPS measurements a profile of concentration. For measurements XPS UHV system, Omicron Nanotechnology, equpied with Ar ion gun was used.
Plik z danymi badawczymi
dwuwarstwa au ag xps.opj
204.8 kB,
S3 ETag
29b5c694b2ce78f249ec8cf21b2c9ef3-1,
pobrań: 3
Hash pliku liczony jest ze wzoru
Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcie
CC BYUznanie autorstwa - Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
- Oprogramowanie:
- origin
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2021
- Data zatwierdzenia:
- 2021-07-14
- Data wytworzenia:
- 2019
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/fxwa-ce13 otwiera się w nowej karcie
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 39 razy