Wyszukiwarka
Opis
Silver nanostructures were prepared on Si substrate. Thin Ag films (2 and 6 nm thickness) were deposited using a tabletop dc magnetron sputtering coater (EM SCD 500, Leica) in pure Ar plasma. The Ag target was of 99.99% purity, the rate of layer deposition was about 0.4 nm·s−1 , and the incident power was in the range of 30–40 W. The layer thickness was measured in situ using a quartz crystal microbalance. To form nanostructures, the as-prepared films were put into a hot furnace and annealed in argon atmosphere at different temperatures for different periods of time. Oxidaton of silver nanostructures was measured by XPS method. Additionally a bulk silver was measured. In this dataset XPS O1s specra are presented.
Plik z danymi badawczymi
O.opj
289.7 kB,
S3 ETag
1b5fa1d39dfb35a21cc42ab04f720c8a-1,
pobrań: 61
Hash pliku liczony jest ze wzoru
Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcie
CC BYUznanie autorstwa - Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
- Oprogramowanie:
- origin
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2021
- Data zatwierdzenia:
- 2021-07-26
- Data wytworzenia:
- 2020
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/2f1w-gj73 otwiera się w nowej karcie
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 117 razy