Wyszukiwarka
Opis
The DataSet contains the atomic force microscope images of isotropic etching silicon substrates (111). The silicon wafers were etched in a mixture of nitric acid, hydrofluoric acid, and acetic acid in the ratio of 40:1:15. The soaking time for the substrates was from 20 to 90 seconds
A Nanosurf Easyscan 2 AFM atomic force microscopy was used to examine the morphology of thin films.
Plik z danymi badawczymi
AFM.zip
4.1 MB,
S3 ETag
13339fdd0877ab63ee0598d028f43ee5-1,
pobrań: 17
Hash pliku liczony jest ze wzoru
Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcie
CC BYUznanie autorstwa - Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
- Oprogramowanie:
- Gwyddion
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2021
- Data zatwierdzenia:
- 2021-06-21
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/694j-mt27 otwiera się w nowej karcie
- Seria:
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Powiązane zasoby
- dane badawcze XRD patterns of V2O5 thin films deposited on isotropic etching silicon substrates (111)
- dane badawcze SEM micrographs of V2O5 thin films deposited on isotropic etching silicon substrates (111)
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 59 razy