Praca dotyczy optoelektronicznego monitoringu wyładowań jarzeniowych podczas syntezy diamentu cienkowarstwowego. Analizę składu plazmy wykonano za pomoca optycznej spektroskopii emisyjnej. Badania mają na celu zdalne określenie składu plazmy oraz jego wpływu na systezę warstw diamentopodobnych.

Praca porusza problem pomiaru grubości cienkiej warstwy przyściennej -oleju, podczas procesu wyciskania ceramiki modelowej. Szczegółowo opisuje zjawiska fizyczne zachodzące w warstwie przyściennej oraz dynamiczne parametry wykorzystywane do oceny grubości. Autorzy opisują także metodę pomiaru oraz konstrukcję układów pomiarowych.

Przedstawiono wybrane problemy diagnostyki ramanowskiej in-situ wzrostu cienkich warstw węglowych w prózniowym procesie CVD, w szczególności problemy doboru długości fali lasera oraz konstrucji głowic optycznych. Opisano system pomiarowy zrealizowany w Katedrze Optoelektroniki i Systemów Elektronicznych PG. Przedstawiono wyniki wstępnych pomiarów oraz ich interpretację.