An Analysis of Low Frequency Discharge in a CH3SiCl3-Ar-H2 Mixture by Optical Emission Spectroscopy and Actinometry
Abstrakt
Cytowania
-
2
CrossRef
-
0
Web of Science
-
2
Scopus
Autorzy (3)
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- Publikacja w czasopiśmie
- Opublikowano w:
-
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
nr 30,
wydanie 5,
strony 641 - 661,
ISSN: 0272-4324 - ISSN:
- 0272-4324
- Rok wydania:
- 2010
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1007/s11090-010-9238-3
- Weryfikacja:
- Brak weryfikacji
wyświetlono 79 razy