Deposition of thin titanium–copper films with antimicrobial effect by advanced magnetron sputtering methods - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Deposition of thin titanium–copper films with antimicrobial effect by advanced magnetron sputtering methods

Abstrakt

Cytowania

  • 9 8

    CrossRef

  • 1 0 2

    Web of Science

  • 1 0 8

    Scopus

Autorzy (11)

  • Zdjęcie użytkownika  V. Stranak

    V. Stranak

  • Zdjęcie użytkownika  H. Wulff

    H. Wulff

  • Zdjęcie użytkownika  H. Rebl

    H. Rebl

  • Zdjęcie użytkownika  C. Zietz

    C. Zietz

  • Zdjęcie użytkownika  K. Arndt

    K. Arndt

  • Zdjęcie użytkownika  R. Bogdanowicz

    R. Bogdanowicz

  • Zdjęcie użytkownika  B. Nebe

    B. Nebe

  • Zdjęcie użytkownika  R. Bader

    R. Bader

  • Zdjęcie użytkownika  A. Podbielski

    A. Podbielski

  • Zdjęcie użytkownika  Z. Hubicka

    Z. Hubicka

  • Zdjęcie użytkownika  R. Hippler

    R. Hippler

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
Publikacja w czasopiśmie
Opublikowano w:
Materials Science & Engineering C-Materials for Biological Applications nr 31, wydanie 7, strony 1512 - 1519,
ISSN: 0928-4931
ISSN:
0928-4931
Rok wydania:
2011
DOI:
Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.msec.2011.06.009
Weryfikacja:
Brak weryfikacji

wyświetlono 100 razy

Meta Tagi