Effect of nitrogen doping on TiOxNythin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering
Abstrakt
Cytowania
-
4 6
CrossRef
-
0
Web of Science
-
4 8
Scopus
Autorzy (8)
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- Publikacja w czasopiśmie
- Opublikowano w:
-
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
nr 43,
wydanie 28,
ISSN: 0022-3727 - ISSN:
- 0022-3727
- Rok wydania:
- 2010
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1088/0022-3727/43/28/285203
- Weryfikacja:
- Brak weryfikacji
wyświetlono 132 razy