Ellipsometric study of carbon nitride films deposited by DC-magnetron sputtering - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Ellipsometric study of carbon nitride films deposited by DC-magnetron sputtering

Abstrakt

We report the optical properties of a carbon nitride (CNx) film as a function of nitrogen concentration (N/C) of the deposited film. As nitrogen concentration is increased (N/C ratio) in a CNx film, the refractive index and band gap also increase. The real and imaginary parts, n and k (refractive index and extinction coefficient) of the complex refraction index of carbon nitride films were determined by spectroscopic ellipsometry (SE) in the photon energy range from 1.8eV up to 4.8eV. Both n and k reveal a significant variation with deposition conditions. A detailed ellipsometric analysis showed that the refractive index varies from 1.8 to 2.05 at different nitrogen concentrations. The optical band gap of the deposited films was situated in the range 1.34eV?1.58eV.

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Słowa kluczowe

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
artykuły w czasopismach dostępnych w wersji elektronicznej [także online]
Opublikowano w:
Photonics Letters of Poland nr 3(2), strony 70 - 72,
ISSN: 2080-2242
Język:
angielski
Rok wydania:
2011
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

wyświetlono 24 razy

Publikacje, które mogą cię zainteresować

Meta Tagi