Wyszukiwarka
Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges
Abstrakt
Cytowania
-
2 8
CrossRef
-
0
Web of Science
-
3 0
Scopus
Autorzy (8)
-
V. Stranak
-
H. Wulff
-
R. Bogdanowicz
-
S. Drache
-
Z. Hubicka
-
M. Cada
-
M. Tichy
-
R. Hippler
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- Publikacja w czasopiśmie
- Opublikowano w:
-
EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL D
nr 64,
wydanie 2-3,
strony 427 - 435,
ISSN: 1434-6060 - ISSN:
- 1434-6060
- Rok wydania:
- 2011
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1140/epjd/e2011-20393-7
- Weryfikacja:
- Brak weryfikacji
wyświetlono 79 razy