Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges

Abstrakt

Cytowania

  • 2 4

    CrossRef

  • 2 4

    Web of Science

  • 2 4

    Scopus

Autorzy

  • Zdjęcie użytkownika  V. Stranak

    V. Stranak

  • Zdjęcie użytkownika  H. Wulff

    H. Wulff

  • Zdjęcie użytkownika  R. Bogdanowicz

    R. Bogdanowicz

  • Zdjęcie użytkownika  S. Drache

    S. Drache

  • Zdjęcie użytkownika  Z. Hubicka

    Z. Hubicka

  • Zdjęcie użytkownika  M. Cada

    M. Cada

  • Zdjęcie użytkownika  M. Tichy

    M. Tichy

  • Zdjęcie użytkownika  R. Hippler

    R. Hippler

Pełna treść

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
Publikacja w czasopiśmie
Opublikowano w:
EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL D nr 64, wydanie 2-3, strony 427 - 435,
ISSN: 1434-6060
ISSN:
1434-6060
Rok wydania:
2011
DOI:
Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1140/epjd/e2011-20393-7
Weryfikacja:
Brak weryfikacji

wyświetlono 5 razy

Meta Tagi