Improved top hat and ushaped resistors for huigh precision laser trimming. - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Improved top hat and ushaped resistors for huigh precision laser trimming.

Abstrakt

Przedstawiono nowe podejście do poprawy charakterystyk strojenia rezystorów warstwowych typu ''kapelusza'' i typu ''U'' z cięciem prostym pośrodku struktury polegająca na wprowadzeniu zaworki przewodzącej w górnej części rezystora. Umożliwia to eliminację lokalnych przegrzewów oraz zwiększenia dokładności strojenia i wzrostu stabilności.

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Aktywność konferencyjna
Typ:
publikacja w wydawnictwie zbiorowym recenzowanym (także w materiałach konferencyjnych)
Tytuł wydania:
Proceedings. 27th International Conference and Exhibition IMAPS-Poland 2003. strony 284 - 287
Język:
angielski
Rok wydania:
2003
Opis bibliograficzny:
Wroński M.: Improved top hat and ushaped resistors for huigh precision laser trimming.// Proceedings. 27th International Conference and Exhibition IMAPS-Poland 2003. / Gliwice: Siles. Univ. Technol., 2003, s.284-287
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

wyświetlono 4 razy

Publikacje, które mogą cię zainteresować

Meta Tagi