Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych
Abstrakt
Przedstawiono optoelektroniczny system do diagnostyki in-situ plazmowych procesów CVD, wykorzystywanych do wytwarzania cienkich warstw diamentopodobnych. W systemie zastosowano przestrzenną optyczną spektroskopię emisyjną SR-OES i spektroskopię ramanowską. Pozwala to na jednoczesne badanie rozkładu cząstek w plaźmie i parametrów rosnącej warstwy. Opisano konstrukcję systemów pomiarowych, sprzęgniętych z komorą CVD za pomocą dedykowanych torów światłowodowych. Zaprezentowano wyniki prac eksperymentalnych i interpretację danych pomiarowych.
Autorzy (3)
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Opublikowano w:
-
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
nr R. 49,
strony 80 - 83,
ISSN: 0033-2089 - Język:
- polski
- Rok wydania:
- 2008
- Opis bibliograficzny:
- Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P.: Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych// Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania. -Vol. R. 49., nr. nr 11 (2008), s.80-83
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 97 razy