Study of antistatic properties of TiO2:Tb and TiO2:(Tb,Pd) thin films obtained by magnetron sputtering process - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Study of antistatic properties of TiO2:Tb and TiO2:(Tb,Pd) thin films obtained by magnetron sputtering process

Abstrakt

Praca zawiera opis metody pomiaru właściwości antystatycznych cienkich warstw wraz ze zdefiniowaniem kryteriów antystatyczności powierzchni. przedstawiono wyniki pomiarów czasów rozładowywania się warstw tlenkowych. materiały wytworzono metodą rozpylania magnetronowego.

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Słowa kluczowe

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Aktywność konferencyjna
Typ:
publikacja w wydawnictwie zbiorowym recenzowanym (także w materiałach konferencyjnych)
Tytuł wydania:
International optoelectronics workshop/ Proceedings of 2009 International Students and Young Scientists Workshop: Photonics and Microsystems, Wernigerode 25-27.06.2009 strony 59 - 63
Język:
angielski
Rok wydania:
2009
Opis bibliograficzny:
Mazur M., Sieradzka K., Domaradzki J., Łapiński M., Górnicka B., Zieliński M.: Study of antistatic properties of TiO2:Tb and TiO2:(Tb,Pd) thin films obtained by magnetron sputtering process// International optoelectronics workshop/ Proceedings of 2009 International Students and Young Scientists Workshop: Photonics and Microsystems, Wernigerode 25-27.06.2009/ ed. eds. Jaroslaw Domaradzki, Karolina Sieradzka, Maciej Zielinski Piscataway, NJ: IEEE, 2009, s.59-63
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

wyświetlono 68 razy

Publikacje, które mogą cię zainteresować

Meta Tagi