Wyszukiwarka
Abstrakt
Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monitorowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.
Autorzy (4)
Cytuj jako
Pełna treść
pobierz publikację
pobrano 0 razy
- Wersja publikacji
- Accepted albo Published Version
- Licencja
-
otwiera się w nowej karcie
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Opublikowano w:
-
Measurement Automation Monitoring
nr 54,
strony 87 - 90,
ISSN: 2450-2855 - Język:
- polski
- Rok wydania:
- 2008
- Opis bibliograficzny:
- Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P., Leśniewski M.: System optoelektroniczny do kontroli procesów μPA CVD// Pomiary Automatyka Kontrola. -Vol. 54., nr. nr 3 (2008), s.87-90
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 81 razy