Warunki krystalizacji cienkich warstw V2O5 i V2O3 wytwarzanych metodą zol-żel - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Warunki krystalizacji cienkich warstw V2O5 i V2O3 wytwarzanych metodą zol-żel

Abstrakt

Praca ta przedstawia wyniki badań struktury cienkich warstw tlenku wanadu otrzymanych metodą zol - żel. Cienkie warstwy osadzano metodą spin - coating na podłożach wykonanych ze szkła kwarcowego oraz krzemowych. Tak przygotowane próbki wygrzewano w zakresie temperatur od 200 °C do 1200 °C. Zakres temperatur dobrano w taki sposób, aby można było zarówno określić optymalną temperaturę krystalizacji nanoprętów V2O5 jak i otrzymać inny tlenek wanadu. Próbki przebadano metodą dyfraktometrii rentgenowskiej, skaningowym mikroskopem elektronowym oraz mikroskopem sił atomowych. Pentatlenek diwanadu w formie w pełni wykrystalizowanych nanoprętów krystalizuje w temperaturze 600 °C. Tritlenek diwanadu krystalizuje w temperaturze 1200 °C.

Pełna treść

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Archiwalna
Typ:
publikacja w wydawnictwie zbiorowym recenzowanym (także w materiałach konferencyjnych)
Tytuł wydania:
Młodzi naukowcy dla polskiej nauki, cz. X strony 98 - 104
Język:
polski
Rok wydania:
2013
Opis bibliograficzny:
Prześniak M.: Warunki krystalizacji cienkich warstw V2O5 i V2O3 wytwarzanych metodą zol-żel// Młodzi naukowcy dla polskiej nauki, cz. X/ ed. M. Kuczera Kraków: Creativetime, 2013, s.98-104
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

wyświetlono 22 razy

Publikacje, które mogą cię zainteresować

Meta Tagi