Wyszukiwarka
Filtry
wszystkich: 17
Wyniki wyszukiwania dla: ROZPYLANIE MAGNETRONOWE
-
Opis metody określania stopnia zwilżalności powierzchni cienkich warstw na przykładzie TiO2
Publikacjarozdział opisuje sposób określania stopnia zwilżalności powierzchni cienkich warstw tio2. badane warstwy wytworzono za pomocą zmodyfikowanej metody rozpylania magnetronowego. zwilżalność określono za pomocą specjalistycznego stanowiska do pomiaru kąta zwilżania metodą tak zwanej siedzącej kropli. wyniki pokazały, że badane warstwy tio2 posiadały właściwości hydrofilowe.
-
Gasochromic effect in nanocrystalline TiO2 thin films doped with Ta and Pd
Publikacjaw pracy zebrano wyniki badań cienkich warstw domieszkowanego tlenku tytanu. w szczególności zaprezentowano zmianę przezroczystości pod wpływem działania par alkoholu etylowego. badane warstwy zostały naniesione na szklane podłoże metodą rozpylania magnetronowego.
-
Electrical and optical characterization of ITO thin films
PublikacjaW pracy przestawiono wyniki badań tlenku cyny domieszkowanego indem (ITO) pod kątem zastosowania jako przezroczyste elektrody. opisano metody pomiarów wybranych właściwości elektrycznych i optycznych. cienką warstwę ito, naniesioną na szklane podłoże, wykonano metodą rozpylania magnetronowego.
-
Badanie właściwości fotoelektrycznych cienkich warstw tlenków TiO2:V na zautomatyzowanym stanowisku dla metody obic
Publikacjaw rozdziale zaprezentowano wyniki badań właściwości fotoelektrycznych struktury tlenku tytanu domieszkowanego wanadem naniesionej na podłoże krzemowe. cienką warstwę tlenkową naniesiono w procesie rozpylania magnetronowego rozpylania magnetronowego. na podstawie badań stwierdzono występowanie efektu fotoelektrycznego na granicy cienka warstwa - podłoże krzemowe.
-
Study of antistatic properties of TiO2:Tb and TiO2:(Tb,Pd) thin films obtained by magnetron sputtering process
PublikacjaPraca zawiera opis metody pomiaru właściwości antystatycznych cienkich warstw wraz ze zdefiniowaniem kryteriów antystatyczności powierzchni. przedstawiono wyniki pomiarów czasów rozładowywania się warstw tlenkowych. materiały wytworzono metodą rozpylania magnetronowego.
-
Reactive deposition of TiNx layers in a DC-magnetron discharge
PublikacjaTiNx layers have been deposited in 'balanced mode' and 'unbalanced mode' of a reactive DC-magnetron plasma (carrier gas argon, reactive gas nitrogen) under different conditions. Discharge power and reactive gas flow have been varied. The layers have been examined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray reflectometry (XR), and spectroscopic ellipsometry (SE). The results of the layer analyses were combined with plasma investigations...
-
Optical and chemical characterization of thin TiNx films deposited by DC-magnetron sputtering
PublikacjaThin titanium nitride (tinx) films were deposited on silicon substrates by means of a reactive dc-magnetron plasma. Layers were synthesized under various conditions of discharge power and nitrogen flows in two operation modes of the magnetron (the so-called "balanced" and "unbalanced" modes). The optical constants of the tinx films were investigated by spectroscopic ellipsometry (se). X-ray photoelectron spectroscopy (xps) was...
-
Physical properties of homogeneous TiO2 films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure
PublikacjaOptical, photo-electrochemical, crystallographic and morphological properties of TiO2 thin films prepared by high power impulse magnetron sputtering at low substrate temperatures (<65 ◦C) without post-deposition thermal annealing are studied. The film composition-anatase, rutile or amorphous TiO2-is adjusted by the pressure (p ∼ 0.75-15 Pa) in the deposition chamber. The different crystallographic phases were determined with grazing...
-
Zautomatyzowane pomiary rezystywności i ruchliwości w tlenkach półprzewodnikowych SnO2
PublikacjaRozdział opisuje pomiar rezystywności zmodyfikowaną metodą van der pauwa, oraz ruchliwości nośników metodą hallowską. w pracy opisano stanowisko pomiarowe. zaprezentowano program komputerowy niezbędny do przeprowadzenia pomiarów, a także wyniki pomiarów elektrycznych cienkiej warstwy tlenku cyny. badana warstwa została naniesiona na szklane podłoże metodą rozpylania magnetronowego.
-
Properties of nanocrystalline TiO2:V thin films as a transparent semiconducting oxides
Publikacjaw pracy zaprezentowano wyniki badań cienkich warstw tlenku tytanu domieszkowanego wanadem. badany materiał charakteryzowano pod kątem wykorzystania, jako przezroczysty tlenek półprzewodnikowy (tos). warstwy zostały naniesione metodą rozpylania magnetronowego na szklane podłoża.
-
Influence of tb-dopant on water adsorption and wettability of TiO2 thin films
PublikacjaPraca zawiera analizę wpływu domieszki terbu w cienkiej warstwie tlenku tytanu na zwilżalność powierzchni. opisano metodę pomiaru oraz zastosowania warstw hydrofobowych. badania wykazały hydrofilowość warstw. pokazano także wpływ domieszki terbu na zwiększenie densyfikacji struktury tlenku tytanu.
-
Badanie właściwości elektrycznych powłok optycznych wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego
PublikacjaPraca zawiera opis wybranych metod pomiarów elektrycznych cienkich warstw tlenkowych wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego. Omówiono metody pomiaru i stanowiska pomiarowe używane do mierzenia parametrów elektrycznych warstw tlenkowych. Zaprezentowano przykładowe wyniki pomiarów cienkich warstw opartych na tlenku tytanu.
-
Mobility measurements in oxide semiconductors
PublikacjaPraca zawiera wyniki badań właściwości elektrycznych, optycznych i strukturalnych cienkich warstw ito i sno2. badania wykazały, że cienkie warstwy tlenków metali wykazują rezystywność charakterystyczną dla półprzewodników. poziom transmisji światła w zakresie widzialnym pozwala zaliczyć badane warstwy do materiałów przezroczystych. badane cienkie warstwy wykonano metodą rozpylania magnetronowego.
-
Effect of nitrogen doping on TiOxNy thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering
PublikacjaThe paper is focused on a study of formation of TiOxNy thin films prepared by pulsed magnetron sputtering of metallic Ti target. Oxygen and nitrogen were delivered into the discharge in the form of reactive gases O2 and N2. The films were deposited by high-power impulse magnetron sputtering working with discharge repetition frequency f = 250 Hz at low (p = 0.75 Pa) and high (p = 10 Pa) pressure. The substrates were on floating...
-
Study of structural and optical properties of tio2:tb thin films prepared by high energy reactive magnetron sputtering method
Publikacjaw pracy zaprezentowano wyniki badań optycznych i strukturalnych cienkich warstw na bazie domieszkowanego tlenku tytanu. warstwy tlenkowe wytworzono zmodyfikowaną metodą rozpylania magnetronowego z targetu mozaikowego w atmosferze tlenu. badania strukturalne wykazały nanokrystaliczność badanych warstw.
-
Role of nitrogen in optical and electrical band gaps of hydrogenated/hydrogen free carbon nitride film
PublikacjaWe report the optical and electrical band gap energy of amorphous hydrogenated carbon nitride (a-HCNx) and carbon nitride (a-CNx) as a function of nitrogen concentration (N/C). The optical band gap of a-HCNx and a-CNx films has been determined by means of Ellipsometry and UV-VIS. Both optical and electrical band gaps increase with elevated nitrogen concentration. Experimentally obtained electrical band gap is compared with the...
-
Ellipsometric study of carbon nitride films deposited by DC-magnetron sputtering
PublikacjaWe report the optical properties of a carbon nitride (CNx) film as a function of nitrogen concentration (N/C) of the deposited film. As nitrogen concentration is increased (N/C ratio) in a CNx film, the refractive index and band gap also increase. The real and imaginary parts, n and k (refractive index and extinction coefficient) of the complex refraction index of carbon nitride films were determined by spectroscopic ellipsometry...