Modelowanie procesu wysychania filmu cieczowego na ściance - Publication - Bridge of Knowledge

Search

Modelowanie procesu wysychania filmu cieczowego na ściance

Abstract

Zaprezentowany w pracy teoretyczny model kryzysu wrzenia przy wysokich stopniach suchości jest modyfikacją wcześniejszej wersji przedstawionej przez Sedlera i Mikielewicza (1981). Model używany do analizy procesu wysychania filmu cieczowego na ściance, pozwala także na sformułowanie równań bilansu masy cieczy w filmie i w rdzeniu. Rozwiązanie układu równań zawiera parametry, które wyznaczane są eksperymentalnie. W niniejszej pracy model dodatkowo uzupełniono równaniem energii dla filmu, gdzie szybkość dostarczania ciepła do filmu jest bardzo ważnym aspektem w procesie wysychania filmu cieczowego w przepływie pierścieniowym. W wyniku wprowadzenia równania energii otrzymuje się liniowy rozkład strumienia ciepła odpowiedzialnego za odparowanie filmu.

Cite as

Full text

full text is not available in portal

Keywords

Details

Category:
Conference activity
Type:
publikacja w wydawnictwie zbiorowym recenzowanym (także w materiałach konferencyjnych)
Title of issue:
XIII Sympozjum Wymiany Ciepła i Masy, Koszalin - Darłówko, 03-06 września 2007. Tom 2 strony 705 - 712
Language:
Polish
Publication year:
2007
Bibliographic description:
Mikielewicz D., Mikielewicz J., Wajs J., Gliński M., Zrooga A.: Modelowanie procesu wysychania filmu cieczowego na ściance// XIII Sympozjum Wymiany Ciepła i Masy, Koszalin - Darłówko, 03-06 września 2007. Tom 2/ ed. red. H. Charun Koszalin: Wydaw. Uczeln. Politech. Koszal., 2007, s.705-712
Verified by:
Gdańsk University of Technology

seen 82 times

Recommended for you

Meta Tags