Diagnostyka procesu CVD metodą optycznej spektroskopii emisyjnej. Diagnostics of CVD process by means of optical emission spectroscopy.
Abstract
Zastosowano optyczną spektroskopię emisyjną do badania w trybie in-situ dysocjacji cząsteczek oraz wzbudzenia i jonizacji atomów wodoru podczas procesu syntezy cienkich warstw diamentowych metodą chemicznego osadzania z par gazowych wspomaganego plazmą mikrofalową (mPACVD). Zbudowano tor światłowodowy, umożliwiający sprzężenie komory CVD z systemem spektroskopowym i wykonywanie pomiarów bezinwazyjnych. Wykonano pomiary spektralne w zakresie światła widzialnego i bliskiej podczerwieni, co umożliwiło pomiar zależności natężenia linii należących serii Balmera od parametrów procesu technologicznego.
Authors (3)
Cite as
Full text
full text is not available in portal
Keywords
Details
- Category:
- Articles
- Type:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Language:
- Polish
- Publication year:
- 2004
- Bibliographic description:
- Wroczyński P., Gnyba M., Bogdanowicz R.: Diagnostyka procesu CVD metodą optycznej spektroskopii emisyjnej. Diagnostics of CVD process by means of optical emission spectroscopy. // . -., (2004), s.0-0
- Verified by:
- Gdańsk University of Technology
seen 117 times
Recommended for you
System optoelektroniczny do kontroli procesów μPA CVD
- R. Bogdanowicz,
- M. Gnyba,
- P. Wroczyński
- + 1 authors