Search
Long-working-distance Raman system for monitoring of uPA ECR CVD process of thin diamond/DLC layers growth
Abstract
W artykule przedstawiono konstrucję systemu optoelektronicznego do monitoringu ramanowskiego in-situ procesu μPA ECR CVD (ang.: Microwave Plasma Assisted Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapour Deposition), stosowanego do osadzania cienkich warstw diamentowych i diamentopodobnych DLC. System ma budowę modułową i wyposażony jest w dedykowane sondy optyczne. Przedstawiono wyniki pomiarów testowych, potwierdzjące, że system posiada odpowiednią czułość do badania struktury molekularnej syntetyzowanych materiałów.
Authors (5)
Cite as
Full text
download paper
downloaded 17 times
- Publication version
- Accepted or Published Version
- License
-
open in new tab
Keywords
Details
- Category:
- Articles
- Type:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Published in:
-
Photonics Letters of Poland
no. 1,
pages 76 - 78,
ISSN: 2080-2242 - Language:
- English
- Publication year:
- 2009
- Bibliographic description:
- Gnyba M., Kozanecki M., Kosmowski B., Wroczyński P., Bogdanowicz R.: Long-working-distance Raman system for monitoring of uPA ECR CVD process of thin diamond/DLC layers growth// Photonics Letters of Poland. -Vol. 1 ., iss. 2 (2009), s.76-78
- Sources of funding:
-
- Free publication
- Verified by:
- Gdańsk University of Technology
seen 90 times