Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych
Abstract
Przedstawiono optoelektroniczny system do diagnostyki in-situ plazmowych procesów CVD, wykorzystywanych do wytwarzania cienkich warstw diamentopodobnych. W systemie zastosowano przestrzenną optyczną spektroskopię emisyjną SR-OES i spektroskopię ramanowską. Pozwala to na jednoczesne badanie rozkładu cząstek w plaźmie i parametrów rosnącej warstwy. Opisano konstrukcję systemów pomiarowych, sprzęgniętych z komorą CVD za pomocą dedykowanych torów światłowodowych. Zaprezentowano wyniki prac eksperymentalnych i interpretację danych pomiarowych.
Authors (3)
Cite as
Full text
full text is not available in portal
Keywords
Details
- Category:
- Articles
- Type:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Published in:
-
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
no. R. 49,
pages 80 - 83,
ISSN: 0033-2089 - Language:
- Polish
- Publication year:
- 2008
- Bibliographic description:
- Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P.: Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych// Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania. -Vol. R. 49., nr. nr 11 (2008), s.80-83
- Verified by:
- Gdańsk University of Technology
seen 92 times