Abstract
Tematem artykułu jest pomiar grubości struktur cienkowarstwowych szerokostosowanych w optoelektronice, transparentnych warstw dielektrycznych. Grubość jest najistotniejszym parametrem warstwy i determinuje jej właściwościoptyczne. Metoda pomiaru grubości cienkich warstw powinna być bezkontaktowa, nieniszcząca, niekosztowna oraz odporna na zakłócenia
Author (1)
Cite as
Full text
full text is not available in portal
Keywords
Details
- Category:
- Articles
- Type:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Published in:
-
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
no. 45,
pages 22 - 24,
ISSN: 0033-2089 - Language:
- Polish
- Publication year:
- 2004
- Bibliographic description:
- Bogdanowicz R.: Pomiary grubości cienkich warstw metodą modulacji chromatycznej.// Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania. -Vol. 45., nr. 6 (2004), s.22-24
- Verified by:
- Gdańsk University of Technology
seen 113 times
Recommended for you
Mobility measurements in oxide semiconductors
- E. Prociów,
- M. S. Łapiński,
- J. Domaradzki
- + 3 authors
2009
CdS thin films obtained by thermal treatment of cadmium(II) complexprecursor deposited by MAPLE technique
- A. Rotaru,
- A. Mietlarek-Kropidłowska,
- C. Constantinescu
- + 8 authors
2009
Intrinsic and extrinsic factors in anion electron -stimulated desorption: D- from deuterated hydrocarbons condensed on Kr and water ice films.
- P. Możejko,
- A. W. Bass,
- L. Parenteau
- + 1 authors
2004