Optoelektroniczny monitoring stanu wzbudzenia plazmy niskotemperaturowej w procesach syntezy optycznych warstw diamentopodobnych
Abstract
Zrealizowana praca jest jednym z głównych zadań wieloletniego projektu badawczego z zakresu syntezy warstw diamentopodobnych. Celem bezpośrednim pracy było określenie rozkładu wzbudzenia plazmy w komorze technologicznej stanowiska PA ECR CVD. Głównym celem było opracowanie optoelektronicznego systemu pomiarowego, na którego potrzeby zastosowano przestrzennie selektywną optyczną spektroskopię emisyjną dedykowaną do badania procesu syntezy warstw DLC. Cykl obejmował studia teoretyczne, prace projektowe oraz konstrukcyjne nad opracowaniem optoelektronicznego układu do monitoringu stanu wzbudzenia plazmy. Realizacja wymagała analizy wymagań technologicznych próżniowego procesu PA ECR CVD (jest to proces CVD aktywowany plazmą, generowaną na częstotliwości mikrofalowej, w układzie elektronowego rezonansu cyklotronowego) oraz samodzielnego przeprowadzenia szeregu procesów syntezy warstw DLC z monitoringiem in-situ SR-OES. W analizie posłużono się modelowaniem komputerowym do określenia najistotniejszych parametrów syntezy : rozkładu indukcji magnetycznej oraz przebiegu reakcji wzbudzenia w strefie CVD. Wyniki monitoringu optoelektronicznego zweryfikowano niezależnymi metodami elektrycznymi z użyciem sondy Langmuira. Rezultaty wykonanych prac zarówno o charakterze eksperymentalnym jak i analitycznym pozwoliły na wykazanie poprawności postawione tezy badawczej. Założenie, że zastosowanie spektroskopii emisyjnej in-situ do monitorowania wzbudzenia niskotemperaturowej plazmy umożliwi kontrolę procesu syntezy warstw diamentopodobnych zostało uzasadnione i eksperymentalnie wykazane.
Author (1)
Cite as
Full text
full text is not available in portal
Keywords
Details
- Category:
- Thesis, nostrification
- Type:
- praca doktorska pracowników zatrudnionych w PG oraz studentów studium doktoranckiego
- Language:
- Polish
- Publication year:
- 2009
- Verified by:
- Gdańsk University of Technology
seen 104 times
Recommended for you
System optoelektroniczny do kontroli procesów μPA CVD
- R. Bogdanowicz,
- M. Gnyba,
- P. Wroczyński
- + 1 authors
Long-working-distance Raman system for monitoring of uPA ECR CVD process of thin diamond/DLC layers growth
- M. Gnyba,
- M. Kozanecki,
- B. Kosmowski
- + 2 authors