Search
Abstract
Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monitorowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.
Authors (4)
Cite as
Full text
full text is not available in portal
Keywords
Details
- Category:
- Articles
- Type:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Published in:
-
Measurement Automation Monitoring
no. 54,
pages 87 - 90,
ISSN: 2450-2855 - Language:
- Polish
- Publication year:
- 2008
- Bibliographic description:
- Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P., Leśniewski M.: System optoelektroniczny do kontroli procesów μPA CVD// Pomiary Automatyka Kontrola. -Vol. 54., nr. nr 3 (2008), s.87-90
- Verified by:
- Gdańsk University of Technology
seen 73 times