Search
Abstract
Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monitorowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.
Authors (4)
Cite as
Full text
download paper
downloaded 0 times
- Publication version
- Accepted or Published Version
- License
-
open in new tab
Keywords
Details
- Category:
- Articles
- Type:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Published in:
-
Measurement Automation Monitoring
no. 54,
pages 87 - 90,
ISSN: 2450-2855 - Language:
- Polish
- Publication year:
- 2008
- Bibliographic description:
- Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P., Leśniewski M.: System optoelektroniczny do kontroli procesów μPA CVD// Pomiary Automatyka Kontrola. -Vol. 54., nr. nr 3 (2008), s.87-90
- Verified by:
- Gdańsk University of Technology
seen 81 times