Transport Properties of Nitrided VN-SiO2 Sol-Gel derived films - Publication - Bridge of Knowledge

Search

Transport Properties of Nitrided VN-SiO2 Sol-Gel derived films

Abstract

Praca dotyczy transportu elektrycznego stałoprądowego cienkich warstw xVN-(100-x)SiO2 (gdzie x = 90, 80, 70, 60 mol%)otrzymanych w wyniku termicznego azotowania warstw tlenkowych otrzymanych metodą zol-żel. W warstwach obserwuje się granule VN rozdyspergowane w amorficznej matrycy SiO2. Warstwy wykazują przejście nadprzewodzące w temperaturze około 7,5K. W stanie normalnym ich przewodnictwo można opisać modelem charaktrystycznym dla układów nieuporządkowanych.

Cite as

Full text

download paper
downloaded 0 times
Publication version
Accepted or Published Version
License
Creative Commons: CC-BY-NC open in new tab

Keywords

Details

Category:
Articles
Type:
artykuł w czasopiśmie wyróżnionym w JCR
Published in:
ACTA PHYSICA POLONICA A no. 121, pages 744 - 746,
ISSN: 0587-4246
Language:
English
Publication year:
2012
Bibliographic description:
Kościelska B.: Transport Properties of Nitrided VN-SiO2 Sol-Gel derived films// ACTA PHYSICA POLONICA A. -Vol. 121, (2012), s.744-746
Verified by:
Gdańsk University of Technology

seen 62 times

Recommended for you

Meta Tags