Search
Search results for: plazma mikrofalowa
-
Schemat zastępczy i charakterystyki elektrodynamiczne mikrofalowego aplikatora plazmowego typu rezonator wnękowy
PublicationMikrofalowe aplikatory plazmowe wykorzystuje się między innymi do obróbki gazów, w tym do produkcji wodoru poprzez reforming węglowodorów. Omówiony aplikator plazmowy pracuje przy częstotliwości 2,45 GHz. Wyładowanie mikrofalowe powstaje w tym aplikatorze pod ciśnieniem atmosferycznym. Głównym elementem konstrukcyjnym aplikatora jest falowód o obniżonej wysokości, w którym zamontowano dwie elektrody w postaci prętów. Dość dobra...
-
Optoelectronic monitoring of plasma discharge optimized for thin diamond film synthesis
PublicationPraca dotyczy optoelektronicznego monitoringu wyładowań jarzeniowych podczas syntezy diamentu cienkowarstwowego. Analizę składu plazmy wykonano za pomoca optycznej spektroskopii emisyjnej. Badania mają na celu zdalne określenie składu plazmy oraz jego wpływu na systezę warstw diamentopodobnych.
-
Układ zastępczy i charakterystyki elektrodynamiczne mikrofalowego aplikatora plazmowego typu rezonator wnękowy (915 MHz)
PublicationMikrofalowe aplikatory plazmowe wykorzystuje się m.in. do obróbki gazów, w tym do produkcji wodoru poprzez reforming węglowodorów. W pracy przedstawiono elektryczny schemat zastępczy o stałych skupionych mikrofalowego aplikatora typu rezonator wnękowy, wykonanego z odcinka falowodu prostokątnego WR 975. Omówiony aplikator plazmowy pracuje przy częstotliwości 915 MHz. Wyładowanie mikrofalowe powstaje w tym aplikatorze pod ciśnieniem...
-
Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych
PublicationPrzedstawiono optoelektroniczny system do diagnostyki in-situ plazmowych procesów CVD, wykorzystywanych do wytwarzania cienkich warstw diamentopodobnych. W systemie zastosowano przestrzenną optyczną spektroskopię emisyjną SR-OES i spektroskopię ramanowską. Pozwala to na jednoczesne badanie rozkładu cząstek w plaźmie i parametrów rosnącej warstwy. Opisano konstrukcję systemów pomiarowych, sprzęgniętych z komorą CVD za pomocą dedykowanych...
-
Investigation of H2:CH4 plasma composition by means of spatially resolved optical spectroscopy
PublicationThe system based on spatially resolved optical emission spectroscopy dedicated for in situ diagnostics of plasma assisted CVD processes is presented in this paper. Measurement system coupled with chemical vapour deposition chamber by dedicated fiber-optic paths enables investigation of spatial distribution of species densities (Hx, H+, CH, CH+) during chemical vapour deposition process. Experiments were performed for a various...