Investigation of the uniformity of TeO2:Eu layer - Open Research Data - MOST Wiedzy

Twoje konto

zaloguj

Wyszukiwarka

Investigation of the uniformity of TeO2:Eu layer

Opis

TeO2 doped by Eu thin films manufactured by magnetron sputtering method were measured by XPS method.  Te-Eu mosaic target with diameter of 50.8 mm was sputtered for about 45 min in argon-oxygen atmosphere what resulted in 300 nm film thickness deposition. The pressure in the deposition chamber was below 0.2 Pa and substrate was heated  at 200 oC during deposition. The distance between sputtered targets and the Corning 1737 glass substrate was about 10 cm. Uniformity of the film was measured by XPS method with Ar ion gun etching. For analysis etching for 2, 4, 6 and 8 minutes was performed. Results showed good uniformity of film.

Plik z danymi badawczymi

Te.opj
2.2 MB, S3 ETag f3c6f4fad9e9bbe4d91368e29035ea60-1, pobrań: 19
Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:
Creative Commons: by 4.0 otwiera się w nowej karcie
CC BY
Uznanie autorstwa
Dane surowe:
Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Oprogramowanie:
origin

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:
2021
Data zatwierdzenia:
2021-07-22
Data wytworzenia:
2019
Język danych badawczych:
angielski
Dyscypliny:
  • inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
DOI:
Identyfikator DOI 10.34808/e3yh-0934 otwiera się w nowej karcie
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Cytuj jako

Autorzy

wyświetlono 53 razy