Wyszukiwarka
Opis
Gold nanostructures were prepared on silicon - Si(111) as a substrate. as a result of dewetting process. Thin golds films were deposited using a table-top dc magnetron sputtering coater under pure Ar plasma conditions . The Au target had 99.99% purity, the rate of Au layer deposition was about 0.4 nm·s−1 and the incident power was 32 W. The thickness of the films was measured in situ by a quartz crystal microbalance. To analyze the surface morphology of the samples, a FEI Quanta FEG 250 scanning electron microscope (SEM) operated at 10 kV was used. Samples with 1.2, 1.5 and 3.4 nm of initial Au layer anealed at 650 deg for 5, 10 and 15 minutes were measured.
Plik z danymi badawczymi
650.zip
36.1 MB,
S3 ETag
098c3411604ad3b36aa44f3293a28b84-1,
pobrań: 43
Hash pliku liczony jest ze wzoru
Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcie
CC BYUznanie autorstwa - Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2021
- Data zatwierdzenia:
- 2021-07-26
- Data wytworzenia:
- 2021
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/dg3a-fg46 otwiera się w nowej karcie
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 92 razy