Opis
The DataSet contains the scanning electron microscopy (SEM) micrographs of V2O5 coatings on the silicon substrate after thermal treatment under a reducing atmosphere. Thin films were annealed at 600C and 700C for 10 under a reducing atmosphere (94% Ar, 6% H2).
The surface morphologies of the samples were studied by an FEI Company Quanta FEG 250 scanning electron microscope (SEM) (Waltham, MA, USA), mounting the analyzed sample on a carbon conductive tape.
The as-prepared thin film was annealed at 300C under oxidizing atmosphere for 10h, the information about thin film preparation is described in the Journal of Nanomaterials.
Plik z danymi badawczymi
SEM.zip
88.0 MB,
S3 ETag
2843aaefa37c41fd712d5b63f7f71096-1,
pobrań: 55
Hash pliku liczony jest ze wzoru
Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count}
gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcieCC BYUznanie autorstwa
- Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2015
- Data zatwierdzenia:
- 2021-05-25
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/yz3b-dn87 otwiera się w nowej karcie
- Seria:
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Powiązane zasoby
- publikacja The influence of thermal conditions on V2O5 nanostructures prepared by sol-gel method
- publikacja Struktury nanokrystaliczne w układzie V O: wytwarzanie i właściwości
- dane badawcze XRD patterns of the V2O5 coatings after thermal treatment under reducing atmosphere
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 104 razy