Wyszukiwarka
Electrical conductivity of NbN-SiO2 films obtained by ammonolysis of Nb2O5-SiO2 sol-gel derived coatings
Abstrakt
W pracy przedstawiono badania przewodnictwa elektrycznego (w zakresie 5-280K) warstw NbN-SiO2 o grubości 450 nm. Warstwy uzyskano poprzez azotowanie otrzymanych metodą zol-żel warstw Nb2O5-SiO2, o różnym stosunku molowym Nb2O5/SiO2. Azotowanie takich warstw w temperaturze 1200C prowadzi do otrzymania metalicznych granul NbN w amorficznej matrycy SiO2. Struktura warstw była badana mikroskopem sił atomowych (AFM) oraz metodą dyfrakcji rentgenowskiej (XRD). Zależność przewodnictwa elektrycznego w funkcji temperatury została opisana na gruncie modelu proponowanego w literaturze dla układów o słabym nieuporządkowaniu. W żadnej z badanych warstw nie zaobserwowano przejścia nadprzewodzącego.
Autor (1)
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuł w czasopiśmie z listy filadelfijskiej
- Opublikowano w:
-
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS
nr 354,
strony 1549 - 1552,
ISSN: 0022-3093 - Język:
- angielski
- Rok wydania:
- 2008
- Opis bibliograficzny:
- Kościelska B.: Electrical conductivity of NbN-SiO2 films obtained by ammonolysis of Nb2O5-SiO2 sol-gel derived coatings// JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS. -Vol. 354., (2008), s.1549-1552
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 65 razy