ELECTRON ATTACHMENT TO HETEROGENEOUS MOLECULAR CLUSTERS

Jaroslav Kočišek; Jozef Lengyel; Kateryna Grygoryeva; Andryi Pysanenko; Mateusz Zawadzki; Juraj Fedor; Michal Fárník

ELECTRON ATTACHMENT TO HETEROGENEOUS MOLECULAR CLUSTERS

Abstrakt

Heterogeneous clusters are unique model species enabling studies of bulk and surface processes by vacuum restricted methods. This is of particular importance for the reactions of low-energy electrons which have extremely short penetration depth in bulk environments. This contribution overviews our recent experiments with low-energy electrons and clusters prepared by different techniques. First, the deposition of molecules on argon nanoparticles enables the studies of electron induced chemistry of iron pentacarbonyl on the surface. These studies are relevant for the focused electron beam induced deposition - FEBID technique. Second, co-expansion of 2- nitrophenol with water was used to prepare multi-component systems of atmospheric relevance. Finally, using the gas humidification method, we have been able to prepare single micro-hydrated molecules of uracil and its analogues that mimic biological conditions. Specifics of the observed chemistry induced by low-energy electrons will be discussed.

Autorzy (7)

Jaroslav Kočišek dr
Jozef Lengyel dr
Kateryna Grygoryeva
Andryi Pysanenko
Mateusz Zawadzki dr hab.
Juraj Fedor dr
Michal Fárník dr hab.

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

pełna treść artykułu zobacz w serwisie zewnętrznym otwiera się w nowej karcie

Słowa kluczowe

Informacje szczegółowe

Kategoria:: Aktywność konferencyjna
Typ:: publikacja w wydawnictwie zbiorowym recenzowanym (także w materiałach konferencyjnych)
Tytuł wydania:: 21st Symposium on Application of Plasma Processes :Book of contributed papers strony 66 - 69
Język:: angielski
Rok wydania:: 2017
Opis bibliograficzny:: Kočišek J., Lengyel J., Grygoryeva K., Pysanenko A., Zawadzki M., Fedor J., Fárník M.: ELECTRON ATTACHMENT TO HETEROGENEOUS MOLECULAR CLUSTERS// 21st Symposium on Application of Plasma Processes :Book of contributed papers/ ed. V. Medvecká, J. Országh, P. Papp, Š. Matejčík Bratislava, Slovakia: , 2017, s.66-69
Weryfikacja:: Politechnika Gdańska