Evaluation of conductive-to-resistive layers interaction in thick-film resistors

Krzysztof Mleczko; Zbigniew Zawiślak; Adam Witold Stadtler; Andrzej Kolek; Andrzej [obcy] Dziedzic; Jacek Andrzej Cichosz

doi:10.1016/j.microrel.2008.03.012

Evaluation of conductive-to-resistive layers interaction in thick-film resistors

Abstrakt

Spektroskopia szumowa w zakresie małych częstotliwości jest używana do badania oddziaływania warstwy rezystywnej i przewodzącej w wytwarzanych rezystorach grubowarstwowych. Wprowadzono dwa parametry szumowe do określania stopnia tego oddziaływania. Opisano wyniki przeprowadzonych badań oddziaływania warstw z dwutlenku rutenu, rutenku bizmutu z kontaktami ze złota, platyna-złoto, pallad-srebro, od różnych producentów.

Cytowania

1 1

CrossRef
0

Web of Science
1 8

Scopus

Autorzy (6)

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

pełna treść artykułu zobacz w serwisie zewnętrznym otwiera się w nowej karcie

Słowa kluczowe

Informacje szczegółowe

Kategoria:: Publikacja w czasopiśmie
Typ:: artykuł w czasopiśmie z listy filadelfijskiej
Opublikowano w:: MICROELECTRONICS RELIABILITY nr 48, strony 881 - 885,
ISSN: 0026-2714
Język:: angielski
Rok wydania:: 2008
Opis bibliograficzny:: Mleczko K., Zawiślak Z., Stadtler A., Kolek A., Dziedzic A., Cichosz J.: Evaluation of conductive-to-resistive layers interaction in thick-film resistors// MICROELECTRONICS RELIABILITY. -Vol. 48., nr. nr 6 (2008), s.881-885
DOI:: Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.microrel.2008.03.012
Weryfikacja:: Politechnika Gdańska