High-performance temperature control system for resistance furnace annealing and crystal growth of semiconductor compounds

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Kategoria:: Publikacja w czasopiśmie
Typ:: Publikacja w czasopiśmie
Opublikowano w:: Results in Engineering nr 17,
ISSN: 2590-1230
ISSN:: 25901230
Rok wydania:: 2023
DOI:: Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.rineng.2022.100863
Weryfikacja:: Brak weryfikacji

wyświetlono 1 razy

Wyszukiwarka