Wyszukiwarka
Optical and electrical properties of boron doped diamond thin conductive films deposited on fused silica glass substrates
Abstrakt
This paper presents boron-doped diamond (BDD) film as a conductive coating for optical and electronic purposes. Seeding and growth processes of thin diamond films on fused silica have been investigated. Growth processes of thin diamond films on fused silica were investigated at various boron doping level and methane admixture. Two step pre-treatment procedure of fused silica substrate was applied to achieve high seeding density. First, the substrates undergo the hydrogen plasma treatment then spin-coating seeding using a dispersion consisting of detonation nanodiamond in dimethyl sulfoxide with polyvinyl alcohol was applied. Such an approach results in seeding density of 2 × 1010 cm−2. The scanning electron microscopy images showed homogenous, continuous and polycrystalline surface morphology with minimal grain size of 200 nm for highly boron doped films. The sp3/sp2 ratio was calculated using Raman spectra deconvolution method. A high refractive index (range of 2.0-2.4 @550 nm) was achieved for BDD films deposited at 500 °C. The values of extinction coefficient were below 0.1 at λ=550 nm, indicating low absorption of the film. The fabricated BDD thin films displayed resistivity below 48 Ohm cm and transmittance over 60% in the visible wavelength range.
Cytowania
-
4 3
CrossRef
-
0
Web of Science
-
4 3
Scopus
Autorzy (9)
-
Mateusz Śmietana
- Politechnika Warszawska Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki
-
-
Piotr Caban dr
- Instytut Technologi Materiałów Elektronowych Zakład Epitaksji Związków Półprzewodnikowych
Cytuj jako
Pełna treść
- Wersja publikacji
- Accepted albo Published Version
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.apsusc.2016.06.165
- Licencja
-
otwiera się w nowej karcie
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuł w czasopiśmie wyróżnionym w JCR
- Opublikowano w:
-
APPLIED SURFACE SCIENCE
nr 387,
strony 846 - 856,
ISSN: 0169-4332 - Język:
- angielski
- Rok wydania:
- 2016
- Opis bibliograficzny:
- Ficek M., Sobaszek M., Gnyba M., Ryl J., Gołuński Ł., Śmietana M., Jasiński J., Caban P., Bogdanowicz R.: Optical and electrical properties of boron doped diamond thin conductive films deposited on fused silica glass substrates// APPLIED SURFACE SCIENCE. -Vol. 387, (2016), s.846-856
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.apsusc.2016.06.165
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 166 razy
Publikacje, które mogą cię zainteresować
Nucleation and growth of CVD diamond on fused silica optical fibres with titanium dioxide interlayer
- R. Bogdanowicz,
- M. Śmietana,
- M. Gnyba
- + 5 autorów