Wyszukiwarka
The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al 2 O 3 thin films
Abstrakt
Cytowania
-
0
CrossRef
-
0
Web of Science
-
3
Scopus
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- Publikacja w czasopiśmie
- Opublikowano w:
-
OPTICA APPLICATA
ISSN: 0078-5466 - Rok wydania:
- 2015
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.5277/oa150412
- Weryfikacja:
- Brak weryfikacji
wyświetlono 16 razy