Search
Filters
total: 9
Best results in : Research Potential Pokaż wszystkie wyniki (7)
Search results for: PLASMA CVD
-
Zespół Metrologii i Optoelektroniki
Research Potential* komputerowo wspomagana metrologia i diagnostyka * projektowanie systemów * mikrosystemów i makrosystemów elektronicznych * testowanie i diagnostyka elektroniczna * pomiary właściwości szumowych i zakłóceń * spektroskopia impedancyjna * telemetria i telediagnostyka internetowa * katedra redaguje Metrology and Measurement Systems * kwartalnik PAN znajdujący się na liście JCR
-
Katedra Elektrochemii, Korozji i Inżynierii Materiałowej
Research PotentialBadania realizowane przez pracowników Katedry obejmują w szczególności: zjawiska i procesy elektrochemiczne, podstawy korozji i zabezpieczenie przed korozją, inżynierię materiałowa, fizykochemię powierzchni. W Katedrze Elektrochemii, Korozji i Inżynierii Materiałowej realizowanych jest szereg kierunków związanych z badaniami podstawowymi jak i techniczno-technologicznymi. Głównymi obszarami działalności naukowej są: badania mechanizmu...
-
Zespół Fizyki Ciała Stałego
Research PotentialTematyka badawcza Katedry Fizyki Ciała Stałego obejmuje wytwarzanie i badanie materiałów dla energetyki (m.in. nanostruktury, sensory) o innowacyjnych właściwościach fizyko-chemicznych, tj: * kryształy, polikryształy, ceramika, szkło * materiały objętościowe, cienkie warstwy, nanomateriały * materiały metaliczne, półprzewodnikowe, nadprzewodnikowe, izolatory Tematyka badawcza obejmuje również badania symulacyjne i obliczeniowe...
Best results in : Business Offer Pokaż wszystkie wyniki (2)
Search results for: PLASMA CVD
-
Laboratorium Syntezy Innowacyjnych Materiałów i Elementów
Business OfferZespół specjalistycznych urządzeń pozwala dokonywać syntezy diamentu mikro- i nanokrystalicznego oraz diamentu domieszkowanego borem i azotem do zastosowań w optoelektronice oraz nanosensoryce. Domieszkowany borem nanodiament (BDD) jest obecnie najwydajniejszym materiałem półprzewodnikowym do zastosowania w wytwarzaniu biosensorów elektrochemicznych. Laboratorium może otrzymywać ciągłe cienkie polikrystaliczne, domieszkowane elektrody...
-
Laboratorium Nanomateriałów CZT
Business OfferBadanie właściwość powierzchni z wykorzystaniem mikroskopu sił atomowych
Other results Pokaż wszystkie wyniki (48)
Search results for: PLASMA CVD
-
Robert Bogdanowicz dr hab. inż.
PeopleRobert Bogdanowicz received his Ph.D. degree with honours in Electronics from the Gdansk University of Technology. He worked as a post-doc researcher in Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald Institut für Physik. He has initiated optical emission imaging of muti-magnetron pulsed plasma and contributed to the development of antibacterial implant coatings deposited by high-power impulse magnetron sputtering. He moved back to...
-
Improved surface coverage of an optical fibre with nanocrystalline diamond by the application of dip-coating seeding
PublicationGrowth processes of diamond thin films on the fused silica optical fibres (10 cm in length) were investigated at various temperatures. Fused silica pre-treatment by dip-coating in a dispersion consisting of detonation nanodiamond (DND) in dimethyl sulfoxide (DMSO) with polyvinyl alcohol (PVA) was applied. Nanocrystalline diamond (NCD) films were deposited on the fibres using the microwave plasma assisted chemical vapour deposition...
-
RAMAN DIAGNOSTICS OF CVD DIAMOND GROWTH
PublicationDevelopment of Raman spectroscopic system for diagnostics of growth of diamond and BDD (Boron- Doped-Diamond) thin films during μPA CVD (Microwave Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition) process is described. Raman studies of such films were carried out as in-situ monitoring of film deposition as ex-situ measurements conducted for a sample outside the reaction vessel after manufacturing process. Modular system for the in-situ...
-
Optoelectronic system for investigation of cvd diamond/DLC layers growth
PublicationDevelopment of the optoelectronic system for non-invasive monitoring of diamond/DLC (Diamond-Like-Carbon) thin films growth during μPA ECR CVD (Microwave Plasma Assisted Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapour Deposition) process is described. The system uses multi-point Optical Emission Spectroscopy (OES) and long-working-distance Raman spectroscopy. Dissociation of H2 molecules, excitation and ionization of hydrogen atoms...
-
Investigation of H2:CH4 plasma composition by means of spatially resolved optical spectroscopy
PublicationThe system based on spatially resolved optical emission spectroscopy dedicated for in situ diagnostics of plasma assisted CVD processes is presented in this paper. Measurement system coupled with chemical vapour deposition chamber by dedicated fiber-optic paths enables investigation of spatial distribution of species densities (Hx, H+, CH, CH+) during chemical vapour deposition process. Experiments were performed for a various...