Search
Optoelektroniczne metody pomiaru grubości cienkich transparentnych warstw wytwarzanych w procesach próżniowych.
Abstract
W artykule opisano problemy związane z określaniem grubości cienkich transparentnych warstw dielektrycznych, syntetyzowanych w procesach próżniowych. Przedstawiono stosowane metody pomiarowe, szczególny nacisk kładąc na techniki optoelektroniczne, oparte na badaniu interferencji i zmiany stanu polaryzacji światła w wyniku oddziaływania z cienką warstwą oraz na analizie spektralnej. Opisano praktyczne układy, umożliwiające pomiary grubości w zakresie od 100 nm do 1 mm i przedstawiono wyniki wykonanych badań. Potencjał rozwojowy metod optoelektronicznych umożliwia realizację systemów, umożliwiających zdalne wykonywanie pomiarów nieniszczących w trakcie trwania procesu syntezy materiału, także w warunkach silnych zakłóceń.
Authors (3)
Cite as
Full text
full text is not available in portal
Keywords
Details
- Category:
- Articles
- Type:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Language:
- Polish
- Publication year:
- 2004
- Bibliographic description:
- Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P.: Optoelektroniczne metody pomiaru grubości cienkich transparentnych warstw wytwarzanych w procesach próżniowych.// . -., (2004), s.0-0
- Verified by:
- Gdańsk University of Technology
seen 103 times
Recommended for you
Spektroskopia szumowa. Część I. System pomiarowy, badania struktur półprzewodnikowych.
- Z. Chobola,
- L. Hasse,
- J. Sikula
- + 1 authors