Wyszukiwarka
Optoelektroniczne metody pomiaru grubości cienkich transparentnych warstw wytwarzanych w procesach próżniowych.
Abstrakt
W artykule opisano problemy związane z określaniem grubości cienkich transparentnych warstw dielektrycznych, syntetyzowanych w procesach próżniowych. Przedstawiono stosowane metody pomiarowe, szczególny nacisk kładąc na techniki optoelektroniczne, oparte na badaniu interferencji i zmiany stanu polaryzacji światła w wyniku oddziaływania z cienką warstwą oraz na analizie spektralnej. Opisano praktyczne układy, umożliwiające pomiary grubości w zakresie od 100 nm do 1 mm i przedstawiono wyniki wykonanych badań. Potencjał rozwojowy metod optoelektronicznych umożliwia realizację systemów, umożliwiających zdalne wykonywanie pomiarów nieniszczących w trakcie trwania procesu syntezy materiału, także w warunkach silnych zakłóceń.
Autorzy (3)
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Język:
- polski
- Rok wydania:
- 2004
- Opis bibliograficzny:
- Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P.: Optoelektroniczne metody pomiaru grubości cienkich transparentnych warstw wytwarzanych w procesach próżniowych.// . -., (2004), s.0-0
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 103 razy
Publikacje, które mogą cię zainteresować
Spektroskopia szumowa. Część I. System pomiarowy, badania struktur półprzewodnikowych.
- Z. Chobola,
- L. Hasse,
- J. Sikula
- + 1 autorów