Pomiary grubości cienkich warstw metodą modulacji chromatycznej.

Robert Bogdanowicz

Pomiary grubości cienkich warstw metodą modulacji chromatycznej.

Abstrakt

Tematem artykułu jest pomiar grubości struktur cienkowarstwowych szerokostosowanych w optoelektronice, transparentnych warstw dielektrycznych. Grubość jest najistotniejszym parametrem warstwy i determinuje jej właściwościoptyczne. Metoda pomiaru grubości cienkich warstw powinna być bezkontaktowa, nieniszcząca, niekosztowna oraz odporna na zakłócenia

Autor (1)

Robert Bogdanowicz dr hab. inż.

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Słowa kluczowe

Informacje szczegółowe

Kategoria:: Publikacja w czasopiśmie
Typ:: artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
Opublikowano w:: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania nr 45, strony 22 - 24,
ISSN: 0033-2089
Język:: polski
Rok wydania:: 2004
Opis bibliograficzny:: Bogdanowicz R.: Pomiary grubości cienkich warstw metodą modulacji chromatycznej.// Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania. -Vol. 45., nr. 6 (2004), s.22-24
Weryfikacja:: Politechnika Gdańska