Wyszukiwarka
Abstrakt
Tematem artykułu jest pomiar grubości struktur cienkowarstwowych szerokostosowanych w optoelektronice, transparentnych warstw dielektrycznych. Grubość jest najistotniejszym parametrem warstwy i determinuje jej właściwościoptyczne. Metoda pomiaru grubości cienkich warstw powinna być bezkontaktowa, nieniszcząca, niekosztowna oraz odporna na zakłócenia
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Opublikowano w:
-
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
nr 45,
strony 22 - 24,
ISSN: 0033-2089 - Język:
- polski
- Rok wydania:
- 2004
- Opis bibliograficzny:
- Bogdanowicz R.: Pomiary grubości cienkich warstw metodą modulacji chromatycznej.// Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania. -Vol. 45., nr. 6 (2004), s.22-24
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 77 razy
Publikacje, które mogą cię zainteresować
Mobility measurements in oxide semiconductors
- E. Prociów,
- M. S. Łapiński,
- J. Domaradzki
- + 3 autorów
2009
CdS thin films obtained by thermal treatment of cadmium(II) complexprecursor deposited by MAPLE technique
- A. Rotaru,
- A. Mietlarek-Kropidłowska,
- C. Constantinescu
- + 8 autorów
2009
Intrinsic and extrinsic factors in anion electron -stimulated desorption: D- from deuterated hydrocarbons condensed on Kr and water ice films.
- P. Możejko,
- A. W. Bass,
- L. Parenteau
- + 1 autorów
2004