Ellipsometric study of carbon nitride films deposited by DC-magnetron sputtering

Abhijit Majumdar; Robert Bogdanowicz; Rainer Hippler

doi:10.4302/plp.2011.2.09

Ellipsometric study of carbon nitride films deposited by DC-magnetron sputtering

Abstrakt

We report the optical properties of a carbon nitride (CNx) film as a function of nitrogen concentration (N/C) of the deposited film. As nitrogen concentration is increased (N/C ratio) in a CNx film, the refractive index and band gap also increase. The real and imaginary parts, n and k (refractive index and extinction coefficient) of the complex refraction index of carbon nitride films were determined by spectroscopic ellipsometry (SE) in the photon energy range from 1.8eV up to 4.8eV. Both n and k reveal a significant variation with deposition conditions. A detailed ellipsometric analysis showed that the refractive index varies from 1.8 to 2.05 at different nitrogen concentrations. The optical band gap of the deposited films was situated in the range 1.34eV?1.58eV.

Cytowania

3

CrossRef
0

Web of Science
1 0

Scopus

Autorzy (3)

Cytuj jako

Pełna treść

pobierz publikację

pobrano 0 razy

Wersja publikacji: Accepted albo Published Version
Licencja: otwiera się w nowej karcie

pełna treść artykułu zobacz w serwisie zewnętrznym otwiera się w nowej karcie

Słowa kluczowe

Informacje szczegółowe

Kategoria:

Publikacja w czasopiśmie

Typ:

artykuł w czasopiśmie wyróżnionym w JCR

Opublikowano w:

Photonics Letters of Poland nr 3, strony 70 - 72,
ISSN: 2080-2242

Język:

angielski

Rok wydania:

2011

Opis bibliograficzny:

Majumdar A., Bogdanowicz R., Hippler R.: Ellipsometric study of carbon nitride films deposited by DC-magnetron sputtering// Photonics Letters of Poland. -Vol. 3, iss. 2 (2011), s.70-72

DOI: