Mobility measurements in oxide semiconductors - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Mobility measurements in oxide semiconductors

Abstrakt

Praca zawiera wyniki badań właściwości elektrycznych, optycznych i strukturalnych cienkich warstw ito i sno2. badania wykazały, że cienkie warstwy tlenków metali wykazują rezystywność charakterystyczną dla półprzewodników. poziom transmisji światła w zakresie widzialnym pozwala zaliczyć badane warstwy do materiałów przezroczystych. badane cienkie warstwy wykonano metodą rozpylania magnetronowego.

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Słowa kluczowe

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Aktywność konferencyjna
Typ:
publikacja w wydawnictwie zbiorowym recenzowanym (także w materiałach konferencyjnych)
Tytuł wydania:
33 International Conference of IMAPS - CPMT IEEE Poland/ International conference IMAPS-CPMT IEEE Poland strony 291 - 294
Język:
angielski
Rok wydania:
2009
Opis bibliograficzny:
Prociów E., Łapiński M., Domaradzki J., Wojcieszak D., Sieradzka K., Berlicki T.: Mobility measurements in oxide semiconductors// 33 International Conference of IMAPS - CPMT IEEE Poland/ International conference IMAPS-CPMT IEEE Poland/ ed. eds. Piotr Kowalik, Krzysztof Waczyński. Kraków: International Microelectronics and Packaging Society - Poland, 2009, s.291-294
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

wyświetlono 139 razy

Publikacje, które mogą cię zainteresować

Meta Tagi