Wyszukiwarka
Abstrakt
Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monitorowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.
Autorzy (4)
Cytuj jako
Pełna treść
pobierz publikację
pobrano 17 razy
- Wersja publikacji
- Accepted albo Published Version
- Licencja
-
otwiera się w nowej karcie
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Opublikowano w:
-
Measurement Automation Monitoring
nr 54,
strony 87 - 90,
ISSN: 2450-2855 - Język:
- polski
- Rok wydania:
- 2008
- Opis bibliograficzny:
- Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P., Leśniewski M.: System optoelektroniczny do kontroli procesów μPA CVD// Pomiary Automatyka Kontrola. -Vol. 54., nr. nr 3 (2008), s.87-90
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 105 razy