Filtry
wszystkich: 68
Najlepsze wyniki w katalogu: Potencjał Badawczy Pokaż wszystkie wyniki (59)
Wyniki wyszukiwania dla: depth profile
-
Zespół Obrabiarek, Narzędzi i Obróbki Skrawaniem
Potencjał BadawczyMechaniczna technologia drewna
-
Zespół Systemów Multimedialnych
Potencjał Badawczy* technologie archiwizacji, rekonstrukcji i dostępu do nagrań archiwalnych * technologie inteligentnego monitoringu wizyjnego i akustycznego * multimedialne technologie telemedyczne * multimodalne interfejsy komputerowe
-
Katedra Przedsiębiorczości i Prawa Gospodarczego
Potencjał BadawczyZatrudnieni w niej pracownicy wywodzą się z różnych katedr i reprezentują kilka dyscyplin naukowych, które wiążą się z przedsiębiorczością. Zajmujemy się ekonomią, zarządzaniem, prawem, psychologią, czyli naukami, w których przedsiębiorczość jest jednym z istotnych analizowanych zjawisk. Dzięki zróżnicowaniu dyscyplin, które reprezentujemy, realizujemy wielostronne badania dotyczące - poza przedsiębiorczością - także samego przedsiębiorcy...
Najlepsze wyniki w katalogu: Oferta Biznesowa Pokaż wszystkie wyniki (9)
Wyniki wyszukiwania dla: depth profile
-
Laboratorium Technologii Maszyn i Inżynierii Odwrotnej
Oferta Biznesowa -
InerLAB - Laborarium grawimetrycznych pomiarów morskich i brzegowych
Oferta BiznesowaZagadnienia związane z technologiami pozyskiwania i eksploatacji danych grawimetrycznych.
-
GUT Tribology
Oferta Biznesowa* badania tarcia i zużycia materiałów tribologicznych * badania eksperymentalne układów łożyskowych (tocznych i ślizgowych) smarowanych olejem, wodą, zanieczyszczonymi smarami lub smarami smarowanymi * teoretyczne badania wykorzystania modeli zweryfikowanych eksperymentalnie (w tym MES, CFD i FSI) * eksperymentalne badania wytrzymałości zmęczeniowej (łożyska ślizgowe cienkowarstwowe) * projektowanie nowych i modernizacja istniejących...
Pozostałe wyniki Pokaż wszystkie wyniki (228)
Wyniki wyszukiwania dla: depth profile
-
Storing Matter’technique in SIMS depth profile analysis
PublikacjaSecondary ion mass spectrometry (SIMS) is a very useful technique for the analysis of layered systems. It is based on the primary ion beam sputtering of solids and mass analysis of the emitted secondary ions. A main limitation of this technique results from the direct quantitative analysis, since the ionization efficiency of a given atom is highly influenced by the neighbouring atoms at the surface. This phenomenon is known as...
-
Actual field corrosion rate of offshore structures in the Baltic Sea along depth profile from water surface to sea bed
PublikacjaThe paper presents the results of field electrochemical investigations on the corrosion rate of carbon steel in seawater of the Baltic Sea at the location of the Baltic Beta production rig. The measurements were conducted throughout the year in seawater at different depths from the sea surface to the sea bed (about 75 m). The results revealed corrosion aggressiveness of the seawater along the entire depth profile. There was...
-
Depth profile of the gold-silver bimetallic structures
Dane BadawczeSilver and gold bimetallic layers were deposited on a silicon substrate by magnetron sputtering method. Both, Au and Ag layers had 3 nm of thickness. That prepared nanostructures were measured by XPS method. To obtain a depth profile of chemical composition, an Argon ion (Ar+) gun was used for etching surface of sample. Each cycle of etching takes 30...
-
Depth profile of the chemical composition of the Au-Ag multilayers
Dane BadawczeSilver and gold multilayers were deposited on a silicon substrate by magnetron sputtering method. Both type, Au and Ag thin films had 2 nm of thickness. Totally structure had thickness of 6 nm (Au-Ag-Au). That prepared multilayers were measured by XPS method. To obtain a depth profile of chemical composition, an Argon ion (Ar+) gun was used for etching...
-
Depth profile of the composition of 8 nm Al2O3 thin film
Dane Badawcze8 nm layer of aluminum oxide (Al2O3) was deposited by ALD method on a s. Atomic layer deposition provides precise thickness control down to a single atomic layer. The precursors used were trimethylaluminum (Sigma-Aldrich) and purified water. The deposition of the atomic layer was carried out at 200 °C. To investigate the profile of concenration of...