Filters
total: 31
Best results in : Research Potential Pokaż wszystkie wyniki (26)
Search results for: PLASMA DEPOSITION
-
Zespół Metrologii i Optoelektroniki
Research Potential* komputerowo wspomagana metrologia i diagnostyka * projektowanie systemów * mikrosystemów i makrosystemów elektronicznych * testowanie i diagnostyka elektroniczna * pomiary właściwości szumowych i zakłóceń * spektroskopia impedancyjna * telemetria i telediagnostyka internetowa * katedra redaguje Metrology and Measurement Systems * kwartalnik PAN znajdujący się na liście JCR
-
Zespół Biomateriałów
Research PotentialInżynieria i technologia biomateriałów, inżynieria powierzchni, wytwarzanie implantów metalowych, rozwój materiałów odpornych na korozję
-
Zespół Fizyki Ciała Stałego
Research PotentialTematyka badawcza Katedry Fizyki Ciała Stałego obejmuje wytwarzanie i badanie materiałów dla energetyki (m.in. nanostruktury, sensory) o innowacyjnych właściwościach fizyko-chemicznych, tj: * kryształy, polikryształy, ceramika, szkło * materiały objętościowe, cienkie warstwy, nanomateriały * materiały metaliczne, półprzewodnikowe, nadprzewodnikowe, izolatory Tematyka badawcza obejmuje również badania symulacyjne i obliczeniowe...
Best results in : Business Offer Pokaż wszystkie wyniki (5)
Search results for: PLASMA DEPOSITION
-
Laboratorium Syntezy Innowacyjnych Materiałów i Elementów
Business OfferZespół specjalistycznych urządzeń pozwala dokonywać syntezy diamentu mikro- i nanokrystalicznego oraz diamentu domieszkowanego borem i azotem do zastosowań w optoelektronice oraz nanosensoryce. Domieszkowany borem nanodiament (BDD) jest obecnie najwydajniejszym materiałem półprzewodnikowym do zastosowania w wytwarzaniu biosensorów elektrochemicznych. Laboratorium może otrzymywać ciągłe cienkie polikrystaliczne, domieszkowane elektrody...
-
Laboratorium Nanomateriałów CZT
Business OfferBadanie właściwość powierzchni z wykorzystaniem mikroskopu sił atomowych
-
Laboratorium Źródeł Energii w Katedrze Konwersji i Magazynowania Energii
Business Offer
Other results Pokaż wszystkie wyniki (98)
Search results for: PLASMA DEPOSITION
-
Plasma-Based Deposition and Processing Techniques for Optical Fiber Sensing
PublicationPlasma-based techniques are widely applied for well-controlled deposition, etching or surface functionalization of a number of materials. It is difficult to imagine fabrication of novel microelectronic and optoelectronic devices without using plasma-enhanced deposition of thin films, their selective etching or functionalization of their surfaces for subsequent selective binding of chemical or biological molecules. Depending on...
-
Ellipsometric investigation of nitrogen doped diamond thin films grown in microwave CH4/H2/N2 plasma enhanced chemical vapor deposition
PublicationThe influence of N2 concentration (1%–8%) in CH4/H2/N2 plasma on structure and optical properties of nitrogen doped diamond (NDD) films was investigated. Thickness, roughness, and optical properties of the NDD films in the VIS–NIR range were investigated on the silicon substrates using spectroscopic ellipsometry. The samples exhibited relatively high refractive index (2.6 6 0.25 at 550 nm) and extinction coefficient (0.05 6 0.02...
-
Reactive deposition of TiNx layers in a DC-magnetron discharge
PublicationTiNx layers have been deposited in 'balanced mode' and 'unbalanced mode' of a reactive DC-magnetron plasma (carrier gas argon, reactive gas nitrogen) under different conditions. Discharge power and reactive gas flow have been varied. The layers have been examined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray reflectometry (XR), and spectroscopic ellipsometry (SE). The results of the layer analyses were combined with plasma investigations...
-
Investigation of H2:CH4 plasma composition by means of spatially resolved optical spectroscopy
PublicationThe system based on spatially resolved optical emission spectroscopy dedicated for in situ diagnostics of plasma assisted CVD processes is presented in this paper. Measurement system coupled with chemical vapour deposition chamber by dedicated fiber-optic paths enables investigation of spatial distribution of species densities (Hx, H+, CH, CH+) during chemical vapour deposition process. Experiments were performed for a various...
-
Boron-Doped Diamond/GaN Heterojunction—The Influence of the Low-Temperature Deposition
PublicationWe report a method of growing a boron-doped diamond film by plasma-assisted chemical vapour deposition utilizing a pre-treatment of GaN substrate to give a high density of nucleation. CVD diamond was deposited on GaN substrate grown epitaxially via the molecular-beam epitaxy process. To obtain a continuous diamond film with the presence of well-developed grains, the GaN substrates are exposed to hydrogen plasma prior to deposition....