Electrical and mechanical properties of nitrided sol-gel derived TiO2 and SiO2-TiO2 films

Barbara Kościelska; Leon Murawski; Leszek Wicikowski

Electrical and mechanical properties of nitrided sol-gel derived TiO2 and SiO2-TiO2 films

Abstract

W pracy opisano właściwości elektryczne i mechaniczne cienkich warstw zawierających TiN. Warstwy tlenkowe TiO2 i TiO2-SiO2 zostały przygotowane metodą zol-żel i następnie poddane procesowi amonolizy. Przewodność elektryczna została zmierzona w zaktesie temperatur 10-900K. Warstwy o dużej zawartości TiN charakteryzują się małą energią aktywacji, poniżej 0,1eV. Badania wykazały dużą twardość próbek o wysokiej zawartości TiN.

Authors (3)

Barbara Kościelska prof. dr hab. inż.
- Faculty of Applied Physics and Mathematics
- Gdańsk University of Technology
Leon Murawski prof. dr hab. inż.
- Faculty of Applied Physics and Mathematics
- Gdańsk University of Technology
Leszek Wicikowski dr inż.
- Faculty of Applied Physics and Mathematics
- Gdańsk University of Technology

Cite as

Full text

full text is not available in portal

Keywords

Details

Category:: Articles
Type:: artykuł w czasopiśmie z listy filadelfijskiej
Language:: English
Publication year:: 2005
Bibliographic description:: Kościelska B., Murawski L., Wicikowski L.: Electrical and mechanical properties of nitrided sol-gel derived TiO2 and SiO2-TiO2 films// . -., (2005),
Verified by:: Gdańsk University of Technology