Filters
total: 10
filtered: 4
Chosen catalog filters
Search results for: WARSTWY GRUBE
-
Evaluation of conductive-to-resistive layers interaction in thick-film resistors
PublicationSpektroskopia szumowa w zakresie małych częstotliwości jest używana do badania oddziaływania warstwy rezystywnej i przewodzącej w wytwarzanych rezystorach grubowarstwowych. Wprowadzono dwa parametry szumowe do określania stopnia tego oddziaływania. Opisano wyniki przeprowadzonych badań oddziaływania warstw z dwutlenku rutenu, rutenku bizmutu z kontaktami ze złota, platyna-złoto, pallad-srebro, od różnych producentów.
-
New trim configurations for laser trimmed thick-film resistors - theoretical analysis, numerical simulation and experimential verification
PublicationW pracy przedstawiono nowe podejście do korekcji rezystorów warstwowych polegające na wytwarzaniu dodatkowego kontaktu w celu rozszerzenia zakresu korekcji i uproszczenia projektowania. Ponadto zaprezentowano nową szybką metodę wyznaczania charakterystyk korekcyjnych a także weryfikację eksperymentalną. Przedstawiono wyniki w postaci zakresów korekcji i względnych przyrostów rezystancji w funkcji kształtu dodatkowego kontaktu oraz...
-
Polymer based thick films - material quality and interface resistance evaluation
PublicationThe properties of polymer based thick film layers mede using different resistive pastes and dipping silvers have been studied. The composite of carbon and graphite (C/Gr) conducting particles suspended in different polymer vehicles were used for preparation resistive layers. Interface resistance Rc created between dipping silver (DiAg) contact layer and resistive layer was determined from the surface potential distribution measurements...
-
Thick - film and LTCC multicontact resistors - preliminary results
PublicationW artykule zaprezentowano i skomentowano wstępne wyniki elektryczxnych i geometrycznych charakterystyk wielokontaktowychstruktur rezystywnych wykonanych w technologiigrubowarstwowej i LTCC ( ceramicznej z niską temperatura wypadaniz). Realizowane struktury miały rozmiary od 200 x 100 μm2 do 1500 x 500 μm2 i 3 lub 6 kontaktów rozmieszczonych e różny sposób na obwodzie warstwy rezystywnej.