Praca dotyczy optoelektronicznego monitoringu wyładowań jarzeniowych podczas syntezy diamentu cienkowarstwowego. Analizę składu plazmy wykonano za pomoca optycznej spektroskopii emisyjnej. Badania mają na celu zdalne określenie składu plazmy oraz jego wpływu na systezę warstw diamentopodobnych.

Praca porusza problem pomiaru grubości cienkiej warstwy przyściennej -oleju, podczas procesu wyciskania ceramiki modelowej. Szczegółowo opisuje zjawiska fizyczne zachodzące w warstwie przyściennej oraz dynamiczne parametry wykorzystywane do oceny grubości. Autorzy opisują także metodę pomiaru oraz konstrukcję układów pomiarowych.

Development of the optoelectronic system for monitoring of diamond/DLC (Diamond-Like-Carbon) thin films growth during mu PA ECR CVD (Microwave Plasma Assisted Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapour Deposition) process is described. The multi-point Optical Emission Spectroscopy (OES) and Raman spectroscopy were employed as non-invasive optoelectronic tools. Dissociation of H-2 molecules, excitation and ionization of hydrogen...